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勻膠旋涂?jī)x是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，它的原理相對(duì)比較簡(jiǎn)單，利用電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)時(shí)所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機(jī)器”。勻膠機(jī)有很多稱謂，勻膠臺(tái)，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)，旋轉(zhuǎn)涂...

plasmacleaner中的等離子體與自然界產(chǎn)生的等離子體本質(zhì)上是一樣的，是區(qū)別于固體、液體和氣體的另一種物質(zhì)聚集態(tài)，人們稱之為物質(zhì)存在的第四種狀態(tài)。它由電離的導(dǎo)電氣體組成，其中包括六種典型的粒子，即電子、正離子、負(fù)離子、激發(fā)態(tài)的原子或分...

隨著ICP-MS、GC-MS等痕量、超痕量檢測(cè)技術(shù)的廣泛應(yīng)用，人們發(fā)現(xiàn)試劑不純帶來(lái)空白值高的問(wèn)題已經(jīng)制約了這些痕量檢測(cè)技術(shù)的實(shí)際應(yīng)用。同時(shí)，一些高純的金屬、半導(dǎo)體和其他材料領(lǐng)域，也對(duì)試劑的純度提出了更高的要求。為此，人們開始尋求各種試劑純化...

隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，清洗工藝在光電產(chǎn)品中是不會(huì)缺少的工藝，清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來(lái)越重要。如何保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率，且同時(shí)保證生產(chǎn)的安全性及生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)環(huán)境的保護(hù)?那么，對(duì)使用者來(lái)說(shuō)選擇高潔凈度，且又具有...

勻膠旋涂?jī)x快速啟動(dòng)和穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速，能夠保證膠厚度的一致性和均勻性。主要用于微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設(shè)備配合使用。適用于半導(dǎo)體工藝，制版及表面涂覆等工藝，可在科研、教育等單位作科研...

紫外臭氧清洗機(jī)在工作時(shí)是給臭氧發(fā)生器供電，臭氧發(fā)生器產(chǎn)生臭氧，由臭氧泵通過(guò)臭氧管輸送到洗菜機(jī)的洗滌桶中，在洗滌桶中與水機(jī)接觸，溶解在水中形成臭氧水，臭氧水具有很強(qiáng)的殺菌、消毒，降解農(nóng)藥作用。使用過(guò)后可將產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致，可*清除...

在面對(duì)微波消解完趕酸過(guò)程中經(jīng)常遇到的趕酸時(shí)間長(zhǎng)、酸腐蝕嚴(yán)重存在的問(wèn)題，使用真空趕酸系統(tǒng)可以把原來(lái)的趕酸時(shí)間從原來(lái)的3-4個(gè)小時(shí)縮短到30-40分鐘之間，大大提高趕酸效率，并且通過(guò)堿液吸收，可避免酸氣的腐蝕，杜絕污染。真空趕酸系統(tǒng)采用集成式優(yōu)...

潔凈的樣品前處理容器是獲得可靠分析結(jié)果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常壓消解罐、玻璃器皿（試管、燒杯、容量瓶等）等的痕量清洗，對(duì)于實(shí)驗(yàn)室人員來(lái)說(shuō)，始終是一個(gè)非常繁瑣而又非常重要的挑戰(zhàn)。使用酸蒸逆流清洗器可以解決這些問(wèn)題。酸蒸逆流清洗器...